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저온플라즈마를이용한

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작성일 23-01-16 13:25

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배가스 처리 기술
◈ 전자에 공급된 에너지
→99%이상: 배경가스에 이전
→나머지: 유해가스에 이전

◈ 플라즈마 처리의 目標(목표): 배경가스의 분자들로부터 활성기를 효율적으로 생성하는데 있음

◈배경가스중 주요해리 대상물질:O2 , H2O

배가스 처리 기술
◈저온 플라즈마에 의한 反應 기작

e + O2 → e + O(3P) + O(1D)
O(3P) + NO + M e → NO2+ M
O(1D) + H2O → OH + OH
OH + NO2 → HNO3

배가스 처리 기술…(省略)
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